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詳細說明
反滲透設備與電去離子(EDI)設備基本工藝流程為:原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設備→電去離子(EDI)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點
半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品,集成電路的集成度越高,線寬越窄,對水質的要求也越高,目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業等級,分別為18MΩ,cm、15MΩ,cm、10MΩ,cm、2MΩ,cm、0,5MΩ,cm,以區分不同水質.
EDI(Electrodeionization)是一種具有革命性意義的水處理技術,它巧妙地將電滲析技術和離子交換技術相融合,無需酸堿,而能連續制取高品質的純水。它具有技術先進、操作簡便、良好的環保特性,代表著一種行業方向。它的出現是水處理技術的一次革命性的進步,標志著水處理工業最終全面跨入綠色產業的行列。
EDI裝置由增壓泵、電去離子(EDI)膜塊、直流穩壓電源、流量計、儀表等組成。合格的RO產水經增壓泵增壓進入EDI系統,EDI膜堆中混合離子交換樹脂將不斷的去除原水中的陰、陽離子,而通過膜堆電流將在陰膜和陽膜附近的水分子使之產生氫離子和氫氧根離子,電離的氫離子和氫氧根離子將再生混合離子交換樹脂,同時交換下來的陰、陽離子經過反擴散分別由陰膜和陽膜進入濃水,部分濃水回流以保持濃水電導率,另一部分濃水和極水則連續排入地溝。電再生過程使EDI系統既不需要停機也不需要傳統的再生設備就能實現持續生產高質量的去離子水。
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